EDA软件

测试芯片设计+DFT,DFM

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library是特定格式,是否可以转成gds/oas格式

1. library支持stream out Layout功能,用户可以设置输出的层次; 2. 打开Tools -> Stream Out Layout 界面,用户可自由设置文件名,格式类型,尺寸,

李剑一

ATC 摆放的DUT 是否只能来自SMTX 的smtcll工具

ATC 也支持drop-in gds 或者user-defined 方式导入gds,但是需要提前打好pin label

董克平日记

远离电压pad的block里的DUT是否会因为绕线电阻不同,从而影响测试结果

1. 对于TRSC来说,IP电路有电压反馈补偿机制 2. 对于YPLO/YPSC来说,测精准的电阻采用KLV接法不受电路电阻的影响;测open/short/leak的判断标准也不会受电路电阻的影响

前端梦工厂

怎样利用condition功能实现在不同条件下生成特定的层或图形?

1.Condition通过条件公式控制 PCell、图形、Constraint 或 Operation是否创建,仅在满足公式条件时生效,通常用于 Pcell 兼容不同场景 2.以控制图形创建为例,在

Whos Chaos

Operation操作是什么,怎样创建operation将参考对象和产生的结果关联起来?

1.Operation是高阶的编辑创建操作,可对选中对象执行自动填充、几何运算和编辑操作,其最大特点是产生的结果与参考的物体之间始终是保持依赖关系 2.以Fill operation填充via为例

Whos Chaos

library里面有多个pattern,pattern有好几种Type,不同的type有什么区别

1. type表示的是pattern里面的几何特征情况; 2. CE1 CE2中的CE表示corner edge,即在Extent Layer范围内,存在顶点;其中1表示精确匹配,2表示patter

pieces

什么是关键面积,为什么不能直接使用某个尺寸的关键面积去计算良率,积分的关键面积和固定尺寸的关键面积有什么区别?

1. 关键面积的定义:关键面积AC(r) 是指版图上所有满足“如果一个半径 ≥ r 的缺陷落进来,就会导致失效”的几何区域之和。 2. 不能用单一尺寸关键面积计算良率的原因:制造过程中产生

老沈1

DE-YMS 中如何对比两个不同批次的晶圆良率分布?

1. 进入“批次对比”模块,分别加载批次 A 和批次 B 的测试数据; 2. 选择相同测试项(如 Vt, Idsat); 3. 点击生成箱线图或 CDF 图,系统自动计算均值、方差和良率差异;

念远怀人

如何理解软件中的seed 的概念

软件抽取的信息,都需要绑定到一个图形上,这个我们就认为是seed。用户可以在Locating Command中建立这个关系,同时也支持链式关系,即当一个polygon绑定到seed上之后,再以次以po

Swallow

关键面积是怎么和良率建立起关系的?

假设 wafer上的缺陷是泊松过程: 1. 过程特征: - a. 缺陷事件相互独立。 - b. 任何一个落入关键区域内的缺陷都会导致芯片(die)失效。 2. 推导结果

胡七筒

floorplan版图拼接功能页面,Use Origin Location和At Origin区别是什么,AutoFloorPlan的By Fixed Pitch页面中Center Origin的意思是什么

Use Origin Location:表示Cell放在top的ori_x/y坐标,若应用mirror,rotate,先放置cell,以ori_x/y放置,然后进行旋转镜像操作 At Origin:

董克平日记

如何把版图直接导入到patternscan的library中

1. 进入layoutvision,打开对应的版图,选择DFM->PatternScan->Run Catpure; 2. 选择对应的Capture模式,选择rectangle select,点击N

李剑一

为什么要对single via建模,为什么统计single via的时候需要排除回路?

1. 一颗 via单独连接上下metal时,如果断开会导致上下层open,没有任何容错空间 2. 当某个区域存在多颗via并联时即使部分断开仍能正常工作。因此需要特别关注单个via。 3. 当si

小托夫

如何使用check connection功能进行连接关系验证?

1.若需要选择通过via连接关系进行trace,需预先在Layer Map的Via Layer分页定义连接关系 2.在查看版图界面,点击Utilities-> Check Connection 3

街角杂货铺

在先进工艺中 testkey 与 pad 间距有对齐要求(例如需要把 mark layer 和 chip 对齐),软件需要怎样操作?

1.通过Alignment功能实现 X/Y 方向对齐,需要定义对齐的距离、偏移量以及需要对齐的层,软件将自动在原有testkey摆放的基础上进行偏移 2. cell指定的对齐层距离坐标原点的距离=n

无法格式化
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